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改進研發鈦合金件內外雙靶材磁控濺射鍍鋁設備

本文研究了鈦合金件內外雙靶材磁控濺射鍍鋁設備的改進。通過對現有設備的分析和問題檢測，提出了改進方案并進行了實驗驗證。結果表明，改進后的設備可以更有效地實現鈦合金件的鍍鋁處理，提高鍍層的質量和穩定性。

넶180 2023-04-25
磁控濺射制備Ta-Cr非晶合金鍍層及其性能

本文采用真空磁控濺射法，采用雙靶共濺射法，通過調節濺射功率制備了不同鉭含量的Ta-Cr二元非晶合金涂層，并對涂層的表觀形貌和物理性能進行了研究。研究過。的特征。研究了鉭含量對涂層力學性能和耐腐蝕性能的影響。

넶590 2023-03-20
不銹鋼基片鍍ZnO薄膜的工藝與研究

ZnO作為一種新型的光電材料，在光波導、半導體紫外激光器、發光器件、壓電傳感器和透明電極等方面有著廣泛的應用本文綜述了在不銹鋼襯底上制備ZnO薄膜的方法和工藝......

넶102 2023-03-03
陶瓷靶材（氧化鋅鋁ZAO）制備及其薄膜性能研究

研究了ZAO靶材與無氧銅的粘接性能、ZAO靶材與無氧銅的粘接性能。通過溶膠、凝膠方法制備的ZnO和Al2O3混合粉末經冷壓預成型加真空低壓燒結，制備了高致密度(相對密度99％)、低成本的ZAO陶瓷靶材。用中頻交流磁控濺射ZAO靶材的工藝制備了ZAO薄膜。利用SEM掃描電鏡和XRD分析測試了陶瓷靶材斷口形貌以及靶材和薄膜的結構。

넶110 2023-01-29
氧氣流量及燒結保溫時間對 ITO 靶材的相含量與電阻率的影響

采用注漿成型法在不同燒結參數下制備 lTO 靶材,研究不同氧氣流量及燒結保溫時間對 lTO 靶材的相含量與電阻率的影響。通過 X 射線衍射(XRD)和掃描電鏡(SEM)對 lTO 靶材的物相組成以及微觀組織形貌進行表征,運用 Rietveld 法對樣品 XRD 數據進行結構精修以計算其相含量。研究結果表明:靶材均由主相(ln2O3 相)以及第二相(ln4Sn3O12 相)組成。當氧氣流量由 40 L / min 提高到 160 L / min 時,第二相含量由 19. 82%(質量分數,下同)逐漸增加到 25. 83%;當保溫時間由 6 h 延長到 12 h 時,第二相含量由 19. 79% 逐漸增加到 31. 27%。對不同氧氣流量以及燒結保溫時間下所制備的樣品進行相對密度以及電阻率測定,結果表明,靶材密度是影響其電阻率的最主要因素,靶材的電阻率隨著密度的增加而降低。靶材密度相近時,靶材相含量對其電學性能有較大的影響,此時靶材的電阻率隨著第二相含量的增加而增大。

넶392 2022-12-29