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不銹鋼基片鍍ZnO薄膜的工藝與研究

ZnO作為一種新型的光電材料,在光波導、半導體紫外激光器、發(fā)光器件、壓電傳感器和透明電極等方面有著廣泛的應用。

 

本文江西國材科技有限公司綜述了在不銹鋼襯底上制備ZnO薄膜的方法和工藝。

 

 

 

1.使用設備:

 

FJL560A超高真空磁控管和離子束組合濺射設備

Thermo Fisher Apreo 2s場發(fā)射掃描電子顯微鏡

 

2.鍍膜步驟:

 

⑴ 基片清洗:依次用丙酮和酒精超聲波清洗15分鐘,用氮氣吹干

⑵ 鍍膜操作各項數(shù)據(jù):

 

背景真空 3×10-3Pa
沉積氣壓 0.8Pa
靶射頻濺射功率 150W
濺射時間

165 / 240 / 310 / 370min

基體偏壓 直流-50V

 

⑶ 鍍膜后處理: 氣壓0.8 Pa,在200攝氏度下加熱2小時

 

 

3.膜厚數(shù)據(jù):

 

產(chǎn)品編號 產(chǎn)品名稱 要求膜層厚度 實際膜層厚度
F230210-0101 不銹鋼基片鍍ZnO薄膜 膜厚1500nm左右 ≈1470um
F230210-0102 不銹鋼基片鍍ZnO薄膜 膜厚2200nm左右 ≈2250um
F230210-0103 不銹鋼基片鍍ZnO薄膜 膜厚2800nm左右 ≈2740um
F230210-0104 不銹鋼基片鍍ZnO薄膜 膜厚3400nm左右 ≈3410um

 

 

 

4.不銹鋼基片鍍ZnO膜層測試SEM圖譜:

 

 

 

ZnO薄膜具有一些優(yōu)越的光電性能,因此,ZnO薄膜在一些光電器件的制備方面有其獨特的優(yōu)勢。

 

利用ZnO薄膜開發(fā)電性能更好的透明電極、發(fā)光元件、太陽能電池窗口材料、光波導材料、場發(fā)射低壓平板顯示材料等具有非常廣闊的前景。

 

 

 

 

 

發(fā)表時間:2023-03-03 09:49
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