不銹鋼基片鍍ZnO薄膜的工藝與研究
ZnO作為一種新型的光電材料,在光波導、半導體紫外激光器、發(fā)光器件、壓電傳感器和透明電極等方面有著廣泛的應用。
本文江西國材科技有限公司綜述了在不銹鋼襯底上制備ZnO薄膜的方法和工藝。
1.使用設備:
FJL560A超高真空磁控管和離子束組合濺射設備
Thermo Fisher Apreo 2s場發(fā)射掃描電子顯微鏡
2.鍍膜步驟:
⑴ 基片清洗:依次用丙酮和酒精超聲波清洗15分鐘,用氮氣吹干
⑵ 鍍膜操作各項數(shù)據(jù):
背景真空 | 3×10-3Pa |
沉積氣壓 | 0.8Pa |
靶射頻濺射功率 | 150W |
濺射時間 |
165 / 240 / 310 / 370min |
基體偏壓 | 直流-50V |
⑶ 鍍膜后處理: 氣壓0.8 Pa,在200攝氏度下加熱2小時
3.膜厚數(shù)據(jù):
產(chǎn)品編號 | 產(chǎn)品名稱 | 要求膜層厚度 | 實際膜層厚度 |
F230210-0101 | 不銹鋼基片鍍ZnO薄膜 | 膜厚1500nm左右 | ≈1470um |
F230210-0102 | 不銹鋼基片鍍ZnO薄膜 | 膜厚2200nm左右 | ≈2250um |
F230210-0103 | 不銹鋼基片鍍ZnO薄膜 | 膜厚2800nm左右 | ≈2740um |
F230210-0104 | 不銹鋼基片鍍ZnO薄膜 | 膜厚3400nm左右 | ≈3410um |
4.不銹鋼基片鍍ZnO膜層測試SEM圖譜:
ZnO薄膜具有一些優(yōu)越的光電性能,因此,ZnO薄膜在一些光電器件的制備方面有其獨特的優(yōu)勢。
利用ZnO薄膜開發(fā)電性能更好的透明電極、發(fā)光元件、太陽能電池窗口材料、光波導材料、場發(fā)射低壓平板顯示材料等具有非常廣闊的前景。
發(fā)表時間:2023-03-03 09:49